| 0 |
|
За повідомленням Reuters, Intel досягла важливого етапу в роботі з системою літографії High-NA від ASML, увімкнувши джерело світла і змусивши світло досягати фоторезисту на пластині. Це свідчить про те, що джерело світла і дзеркала правильно вирівняні, що є найважливішим етапом у процесі налагодження. Це "перше світло" свідчить про те, що один з основних компонентів системи Twinscan EXE:5000 працює, хоча поки що й не на піку продуктивності.
Літографічні машини Twinscan EXE High-NA EUV компанії ASML з проєкційною оптикою з числовою апертурою 0,55 можуть досягати роздільної здатності до 8 нм за одну експозицію - порівняно з типовими системами Low-NA EUV, які забезпечують роздільну здатність 13,5 нм за одну експозицію. Перша з цих систем наразі перебуває в лабораторії ASML у Велдховені, Нідерланди, а другу збирають на підприємстві Intel поблизу Гіллсборо, штат Орегон.
"Технічно, це "перше світло" насправді є "першим світлом на пластині", - пояснив Марк Ассінк, представник ASML. Джерело світла вже працювало, а тепер ми отримали фотони в резистивному шарі на пластині".
Фахівці ASML все ще калібрують інструмент High-NA в Нідерландах, тож машині ще належить надрукувати свої перші тестові зразки.
Інформацію про розробку оприлюднила представник Intel Енн Келлехер на конференції з літографії SPIE, що проходить у Сан-Хосе, Каліфорнія. Наразі Intel збирає свою першу літографічну машину Twinscan EXE:5000 на своєму майданчику поблизу Гіллсборо, штат Орегон. Машину використовуватимуть переважно для розроблення технологічних процесів, коли її зберуть за кілька місяців.
Під час недавніх випробувань машина з Вельдховена успішно продемонструвала свої можливості на кремнієвій пластині, підготовленій за допомогою фоторезистів, що свідчить про її готовність до друку схем. Це досягнення, зване "перше світло на пластині", знаменує собою значний крок уперед у галузі літографії High-NA EUV.
Очікується, що літографія High-NA EUV буде впроваджена провідними виробниками мікросхем, включно з Intel, Samsung і TSMC, протягом найближчих кількох років. Компанія Intel вже заявила про намір використовувати цю систему для свого майбутнього покоління чипів на базі вузлів Intel 14A.
Джерело світла - одна з найскладніших частин будь-якого інструменту для екстремальної ультрафіолетової (EUV) літографії. Ні ASML, ні Intel не розкривають максимальну продуктивність (потужність) джерела світла Twinscan EXE.
Ready, set, buy! Посібник для початківців - як придбати Copilot для Microsoft 365
| 0 |
|
