`

СПЕЦИАЛЬНЫЕ
ПАРТНЕРЫ
ПРОЕКТА

Архив номеров

BEST CIO

Определение наиболее профессиональных ИТ-управленцев, лидеров и экспертов в своих отраслях

Человек года

Кто внес наибольший вклад в развитие украинского ИТ-рынка.

Продукт года

Награды «Продукт года» еженедельника «Компьютерное обозрение» за наиболее выдающиеся ИТ-товары

 

Виталий Кобальчинский

ASML – серый кардинал полупроводниковой индустрии

+77
голосов

Главных игроков индустрии полупроводников знают все. Ну, почти все и почти всех. Intel, AMD, NVIDIA, Qualcomm, Samsung, TSMC – они анонсируют рекордные итоги кварталов, образуют альянсы, кого-то поглощают и реструктуризируются. Но, чтобы известные каждому игроки играли нужен кто-то, кто поможет им делать их игрушки.

Вот он-то обойдённый вниманием широкой общественности и антимонопольных комиссаров держит в руках подлинное Кольцо Всевластия – оборудование для литографии.

Голландская ASML с капитализацией более 300 млрд долл. сегодня практически монополизировала выпуск машин экстремальной ультрафиолетовой литографии (Extreme UltraViolet, EUV).

Родилась ASML (ASM Lithography) в 1984 году, как совместное предприятие конгломерата Philips и производителя электроники, Advanced Semiconductor Materials International, и на первых порах (как все великие) ютилась в бараке, выделенном стартапу на задворках здания Philips в Эйндховене (Нидерланды).

Первым продуктом новой компании стал степпер PA 2000 – своего рода диапроектор для проецирования на кремний рисунка микросхемы. Несколько лет ASML безуспешно старалась потеснить лидировавших тогда на рынке японцев – Nikon и Canon.

В 1988 г. ASML приобрела независимый статус, а в 1991 г. пришёл первый успех, который создал необходимые предпосылки для выхода на биржу в 1995 г. Полученный капитал компания использовала для покупки литографических фирм в США и к концу тысячелетия ASML уже обладала долей рынка, соизмеримой с Nikon и Canon.

Путь к нынешним позициям ASML (90% рынка DUV- и EUV-литографии и фактически эксклюзивный поставщик для Intel и Samsung Electronics) начался с выпуска в 2006 г. системы иммерсионной литографии TWINSCAN, не имевшей конкурентов на рынке.

Примерно в то же время компания сделала рискованный выбор: начала вкладывать массивные ассигнования в исследования и разработку литографии дальнего ультрафиолета. С 2008 по 2014 гг. на эти цели ею было израсходовано свыше 5 млрд долл.

Хотя основы EUV-литографии были заложены в конце 1980-x инициативой Министерства Энергетики США с участием Intel, AMD, IBM и др., в середине 2000-х её перспективы были очень туманны, тем более, что внедрение EUV требовало, чтобы Samsung, Intel и TMSC полностью перестроили и перепроектировали своё производство. Сегодня минимальные капиталовложения для размещения оборудования EUV-литографии оцениваются в миллиард долларов.

Компания ASML лицензировала технологию EUV в 1999 году. Canon решила не использовать её из-за финансовых проблем, в то время как Nikon предпочла ориентироваться на более устоявшиеся технологии.

Так они проиграли, а к 2012 г. потенциал EUV-литографии стал настолько ясен, что в июле главные конкуренты на рынке полупроводников, Intel, Samsung и TSMC, забыв противоречия, дружно вложились в ASML в обмен на суммарную четверть её акций. Благодаря инвестициям ASML смогла через три месяца объявить о покупке фирмы Cymer – специалиста по источникам глубокого (DUV) и экстремального УФ-излучения, а в 2016 г. начать коммерческий выпуск EUV-машин.

Одна такая установка стоит 150 млн долл. и весит 180 тонн. Они делаются индивидуально на заказ, в них используются детали 4750 глобальных поставщиков. В этом ASML больше напоминает глобального агрегатора, фирму Boeing, чем Nikon/Cannon, которые, по старинке, ориентируются на свои ресурсы.

В год ASML успевает выпустить всего около полусотни EUV-установок, но, учитывая, что паспортный срок их эксплуатации составляет два десятка лет, с ростом установленной базы все более значительную долю доходов (до 50% от цены самой EUV-машины) ASML будет получать от их обслуживания, апгрейда и релокации.

В 2020 г. продажи ASML составили более 16 млрд долл.

Капитальные затраты на EUV/DUV в текущем году превысят 120 млрд долл. В дальнейшем, положительная динамика должна сохраниться, подпитанная переходом отрасли на 5-нанометровые техпроцессы.  

Важность продукции ASML даже превращает её в инструмент геополитического давления. Так, США блокировало передачу лицензированных EUV-технологий из Нидерландов в Китай. А поскольку мы живём в эпоху разгорающихся экономических и технологических войн, не стоит удивляться все более частому попаданию на передние полосы СМИ имени не очень публичного техногиганта, рождённого в сарайчике.

Вы можете подписаться на нашу страницу в LinkedIn!

+77
голосов

Напечатать Отправить другу

Читайте также

 
 

  •  Home  •  Рынок  •  ИТ-директор  •  CloudComputing  •  Hard  •  Soft  •  Сети  •  Безопасность  •  Наука  •  IoT