>Наука и технологии

Один из крупнейших производителей решений в области систем хранения данных компания Network Appliance предъявила иск Sun Microsystems, обвинив ее в нарушении семи патентов. Этот шаг является ответом на заявления со стороны последней о нарушении Network Appliance 3-х патентов и настойчивые требования лицензировать IP.

Ключевой частью многих современных технологий является создание мельчайших прорезей на микрочипах. Такие сетки используются во многих оптических, биологических и электронных приборах, в том числе и для позиционирования жидких кристаллов на мониторах.

Applied Materials представила Applied SunFab Thin Film Line, первую в мире, по ее заявлению, интегрированную технологическую линию для выпуска тонкопленочных кремниевых модулей для солнечных батарей с использованием стекляных пластин площадью 5,7 м2 (габариты 2,2 х 2,6 м).

Компания IBM объявила о двух важных достижениях в области нанотехнологий, полученных в ее научных лабораториях.

Sharp сообщила о завершении разработки новой технологии производства ЖК-дисплеев, которая позволяет создавать экраны чувствительные к нажатию, а также, плюс к этому, обладающими функциями сканирования.

Японская фирма Genusion сообщила о выпуске тестового образца новой  быстродействующей флэш-памяти.

По сообщению Motorola, ее дочерние компании Symbol Technologies и Wireless Valley Communications инициировали судебный процесс против Aruba Networks.

Корпорация Intel 27 августа сделала еще один значительный шаг в сторону развития систем безопасности ПК, представив новое поколение процессорной технологии Intel vPro для сферы бизнеса и корпоративной IT-инфраструктуры, оснащенное инновационными функциями, повышающими способность компьютера сопротивляться вирусам, попыткам взл

Фирмой iRobot 22 августа представлена новая версия робота-пылесоса, при создании которой учтены отзывы владельцев первой модели iRobot Roomba, выпущенной почти пять лет назад. К настоящему времени продано свыше двух миллионов экземпляров интеллектуального пылесоса.

Новый технологический процесс, продемонстрированный специалистами Национального института стандартов и технологий (National Institute of Standards and Technology, NIST), позволяет изменять электрическое сопротивление индивидуальных слоев полупроводниковых устройств без внесения модификаций в остальные этапы производственного процесса.