| 0 |
|
Инженеры из Университета Тафтса (Tufts University, США) во главе с Фьоренцо Оменетто (Fiorenzo Omenetto) разработали экологически безопасную методику производства наноструктур из шелка. Главной ее особенностью является использование воды в качестве проявителя, все остальные используемые технологии довольно стандартны. Как считают ученые, их изобретение может стать «зеленой» альтернативой токсичным материалам, используемым сегодня в производстве полупроводников.
Ранее уже предпринимались попытки использовать в литографии резисты, которые могут растворяться в воде, но они не давали необходимой точности, которую требуют современные производственные процессы. Разработчики новой технологии поставили себе цель достичь разрешения ниже 100 нм.
Для этого новый вариант литографии использует водный раствор шелка, а в качестве фоторезиста применяется также шелк, который является природным полимером. В итоге, разрешение у такой литографической технологии находится на уровне современных синтетических фоторезистов.
Новая технология также может быть более дешевой, чем современные аналоги.
Отчет об исследовании опубликован в журнале Nature Nanotechnology.
Ready, set, buy! Посібник для початківців - як придбати Copilot для Microsoft 365
| 0 |
|
