| 0 |
|
Компанія ASML оголосила про досягнення критично важливого рубежу в напівпровідниковій індустрії. Комерційне крило Intel Foundry офіційно розпочало використання передової літографічної технології High NA EUV (екстремальний ультрафіолет із високою числовою апертурою) на техпроцесі Intel 18A для серійного виробництва частини процесорів лінійки Intel Core Ultra Series 3.
Ця подія стала першим у світі прикладом інтеграції систем High NA EUV у комерційне масове виробництво логічних чипів, довівши повну готовність технології до ринкових умов.
Нові процесори Intel Core Ultra Series 3, відомі під кодовою назвою Panther Lake, створюються на базі передового технологічного вузла Intel 18A. Використання літографії High NA EUV для формування малюнка на специфічних (найбільш щільних) шарах цих чипів дозволяє ASML та Intel Foundry збирати унікальні практичні дані. Ці відомості допоможуть оптимізувати налаштування систем, збільшити час безперебійної роботи та вдосконалити виробничі цикли для ширшого впровадження технології.
«Завдяки вищій роздільній здатності та кращому контролю технологічного процесу, впровадження High NA EUV знаменує собою суттєвий крок уперед у напівпровідниковій літографії», - заявив Крістоф Фуке (Christophe Fouquet), президент і генеральний директор ASML. - «Ми пишаємося тим, що допомагаємо створювати менші та щільніші структури мікросхем, які прискорять прогрес у сфері штучного інтелекту та інших перспективних технологій».
Зазначено, співпраця двох гігантів триває вже десятиліттями. У 2024 році Intel та ASML завершили монтаж першої в індустрії комерційної системи High NA EUV у науково-дослідному центрі в Гіллсборо (штат Орегон).
Згодом Intel Foundry стала першою компанією, яка встановила та успішно провела приймальні випробування системи другого покоління - TWINSCAN EXE:5200B. Створена на базі попередньої моделі EXE:5000, нова установка пропонує вищу продуктивність, покращену точність суміщення шарів та модернізоване джерело світла. З нинішнім анонсом Intel офіційно закріпила за собою статус першого в індустрії постачальника масової логіки, виготовленої за допомогою High NA EUV.
«Ця віха демонструє, як технологію High NA EUV можна масштабувати та інтегрувати в передове виробництво напівпровідників», - зазначив Нага Чандрасекаран (Naga Chandrasekaran), виконавчий віцепрезидент і генеральний директор Intel Foundry. - «Кваліфікація процесу High NA EUV на окремих шарах продуктів Intel 18A дозволяє нашому поточному парку обладнання забезпечувати клієнтам підвищений обсяг випуску чипів. Водночас ми закладаємо фундамент для майбутніх вузлів, щоб досягти провідних показників продуктивності, щільності та гнучкості виробництва».
Стратегія охолодження ЦОД для епохи AI
| 0 |
|
