Вода помогает сделать нанопровода еще тоньше

Ключевым элементом нового процесса изготовления металлических и полупроводниковых структур шириной менее 10 нм является вода. Технология, разработанная в лаборатории профессора хьюстонского Университета Райса Джеймса Тура (James Tour), использует в качестве маски мениск — искривление поверхности воды на краях.

По словам Тура, это открытие может иметь далекоидущие последствия для производства чипов с детализацией 10 нм и менее: «В мире не существует другого способа делать это на поверхности и в больших масштабах».

Сотрудники лаборатории Тура и аспиранты Вера Абрамова и Александр Слесарев, используя эту методику изготовили нанопровода шириной от 6 до 16 нм из кремния, кварца, золота, хрома, вольфрама, титана, диоксида титана и алюминия. Они также смогли получить сетки из пересекающихся нанопроводов одного или нескольких материалов.

Процесс менискового маскирования предусматривает последовательное добавление и удаление материалов. В итоге образуется мениск, покрывающий проводник и поднимающийся по бокам «жертвенной» металлической маски. После удаления последней остается отдельный нанопровод.

Тур уверяет, что новый процесс интегрируется в современные технологии производства и нуждается лишь в минимальных изменениях рабочего протокола — оборудование и материалы остаются прежними. Статья о литографии с менисковой маской вышла в онлайновом журнале Nano Letters.