Toshiba и SK Hynix сообщили о совместной разработке технологии наноимпринтинговой литографии (nanoimprint lithography, NIL), которая позволит существенно снизить себестоимость производства различных типов памяти. Компании планируют начать производство по новой технологии уже в 2017 г.
Наноимпринтинговая литография является одной из перспективных технологий производства электроники следующего поколения. В отличии от традиционной фотолитографии, использующей лазеры и фоточувствительные маски для нанесения микросхем, NIL позволяет изготавливать их путем штамповки — механической деформации резиста заранее созданным шаблоном. Таким образом можно получить микросхемы по более тонким техпроцессам.
Toshiba уже инвестировала средства в разработку NIL, но объединив усилия с SK Hynix, она сможет ускорить прогресс и снять часть финансовой нагрузки. Инженеры компаний приступят к совместной работе в апреле этого года на предприятии Yokohama Complex, принадлежащем Toshiba.
Ready, set, buy! Посібник для початківців - як придбати Copilot для Microsoft 365
| +22 голоса |
|
