Panasonic переводит производство Renesas на 28-32 нм техпроцессы

Panasonic и Renesas Technology объявили о вступлении в строй 1 октября 2009 г линии по разработке 28-32 нм техпроцессов на принадлежащем Renesas заводе в префектуре Ибараки.

Сообщается, что линия будет оперировать 300-миллиметровыми пластинами, а массовое производство 28 нм продуктов планируется начать в ближайшем будущем. На заводе Нака обе компании установили новое оборудование вдобавок к привезенному с фабрики Китаитами (Renesas).

Совместно разработанные технологии создания 28-32 нм SoC будут применяться обеими компаниями в производстве систем-на-чипе, предназначенных для использования в составе мобильных и цифровых устройств – они будут массово выпускаться на производственных мощностях как Renesas, так и Panasonic.