IBM применит компьютерное масштабирование для производства 22-нанометровых полупроводников

Компания IBM объявила о разработке первого в индустрии вычислительного процесса для производства полупроводниковых устройств следующего поколения с уровнем детализации 22 нм – Computational Scaling (CS). Его применение позволит создавать более сложные, быстродействующие и экономичные микросхемы.

Как известно, классический подход к оптической литографии с уменьшением уровня детализации изготовляемых масок для электронных схем наталкивается на фундаментальные физические ограничения. CS позволяет преодолеть такие барьеры используя вычислительные методы увеличения разрешения (resolution enhancement technique,RET), предиктивное моделирование процесса, виртуальную обработку кремния с TCAD, расчет сложных источников освещения и т.д., требующие применения сложных программных алгоритмов и высокопроизводительных компьютерных систем.

Сообщается, что данную инициативу поддержат ключевые партнеры IBM, включая Mentor Graphics and Toppan Printing. Кроме того, она напрямую связана со стратегией IBM Cloud Computing, в рамках которой запущены высокомасштабируемые и экономичные веб-службы.

Кроме того, проект призван укрепить позиции IBM в областях обработки полупроводников, высокопроизводительных вычислений, дизайна интегральных схем и системной интеграции.