IBM, Chartered, Samsung, Infineon и Freescale начинают разработку 32 нм технологии

Компании IBM, Chartered, Samsung, Infineon и Freescale, являющиеся участниками альянса Common Platform, подписали соглашение о совместной разработке 32-нанометрового технологического процесса, действительное до 2010 года.

Инициатива Common Platform предусматривает не только обмен результатами исследований, но и синхронное внедрение разработанной технологии производства на предприятиях всех ее участников. Тем самым обеспечиваются скорейший переход на новый техпроцесс, а также минимизация себестоимости выпускаемых полупроводников.

Ожидается, что в новой технологии производства найдут применение материалы с высокой диэлектрической проницаемостью (high-k). Центром разработки 32 нм техпроцесса станет завод IBM, расположенный в американском городе Ист Фишкилл (штат Нью-Йорк).