Fujitsu внедрит на новом заводе технологию 65 нм

Fujitsu Limited в течение 2006 финансового года планирует дополнить производственный комплекс в префектуре Миэ (Япония) вторым заводом, использующим 300-миллиметровые пластины.

Он получит название 300mm Fab No.2 и войдет в строй в апреле 2007 г., а массовые поставки продукции, изготовляемой по технологии с уровнями детализации 90 и 65 нм, начнутся с июля 2007 г.

За двухлетний период до конца 2007 финансового года Fujitsu инвестирует в это производство примерно 120 млрд иен и рассчитывает довести месячную норму выпуска до 10 тыс. заготовок. Впоследствии, при необходимости, выход продукции может быть увеличен до 25 тыс. пластин в месяц.

Первый 300-миллиметровый завод компании, 300mm Fab. No.1, работает с апреля 2005 г. и к марту 2007 г. выйдет на уровень 15 тыс. пластин в месяц, изготовляемых по 90-нанометровой технологии.

На основании консультаций со своими глобальными технологическими партнерами Fujitsu прогнозирует, что с конца финансового 2007 г. спрос на логические микросхемы существенно превысит возможности 300mm Fab. No.1.