`

СПЕЦИАЛЬНЫЕ
ПАРТНЕРЫ
ПРОЕКТА

Архив номеров

Что для вас является метрикой простоя серверной инфраструктуры?

Best CIO

Определение наиболее профессиональных ИТ-управленцев, лидеров и экспертов в своих отраслях

Человек года

Кто внес наибольший вклад в развитие украинского ИТ-рынка.

Продукт года

Награды «Продукт года» еженедельника «Компьютерное обозрение» за наиболее выдающиеся ИТ-товары

 

Fujitsu и Panasonic совершают прорыв в 45-нм технологиях производства микросхем

0 
 

Компания Fujitsu разработала новый 45-нм техпроцесс для производства логических БИС, в котором реализованы новые технологии отжига и высокопроизводительные межкомпонентные соединения. По сравнению с известными 45нм процессами новая технологическая платформа позволяет на 80% снизить ток утечки и уменьшить до 14% индуцированное межкомпонентными соединениями время запаздывания (причем ширина межкомпонентных соединений и расстояние между ними составляет менее 65 нм). Внедрение данного техпроцесса позволит предложить логические БИС, отличающиеся высоким быстродействием, малыми размерами и пониженным энергопотреблением. Fujitsu планирует уже в 2008 г. начать промышленное производство БИС для мобильных устройств по новой 45-нм технологии. В свою очередь, компания Panasonic уже объявила о начале промышленного производства системных БИС (LSI) по 45-нм технологии. В 45-нм техпроцессе Panasonic используется иммерсионный сканер с лазером ArF, со значением числовой апертуры проекционной оптической системы больше 1, собственная технология обеспечения сверхвысокого разрешения, изоляторы с ультрамалой диэлектрической проницаемостью (ultralow-k), и несколько других разработок. Данный технологический процесс позволяет примерно вдвое (по сравнению с 65-нм технологиями) снизить требуемую площадь поверхности и энергопотребление.

0 
 

Напечатать Отправить другу

Читайте также

 
 
IDC
Реклама

  •  Home  •  Рынок  •  ИТ-директор  •  CloudComputing  •  Hard  •  Soft  •  Сети  •  Безопасность  •  Наука  •  IoT