Carl Zeiss предоставила оптическую систему для литографии в дальнем ультрафиолете

Компания Carl Zeiss представила полноценную оптическую систему для выпуска чипов на базе технологии Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL). Данная система войдет в состав основного модуля первой производственной линии EUVL голландского производителя и партнера Carl Zeiss – компании ASML.

Сообщается, что ASML уже получила пять заказов на системы EUVL, поставки по которым начнутся со второй половины 2010 г. Технология позволит производить до 60 заготовок в час. С её помощью компании смогут выпускать чипы с уровнем детализации до 20 нм.

По словам Питера Кертца (Peter Kürz), руководителя программы разработки EUVL, объем инвестиций в этот проект составил более 100 млн евро.