`

СПЕЦИАЛЬНЫЕ
ПАРТНЕРЫ
ПРОЕКТА

Архив номеров

Как изменилось финансирование ИТ-направления в вашей организации?

Best CIO

Определение наиболее профессиональных ИТ-управленцев, лидеров и экспертов в своих отраслях

Человек года

Кто внес наибольший вклад в развитие украинского ИТ-рынка.

Продукт года

Награды «Продукт года» еженедельника «Компьютерное обозрение» за наиболее выдающиеся ИТ-товары

 

Леонид Бараш

Возможный путь к БИС новой генерации

+33
голоса

Исследователи из Университета Мериленда разработали новый процесс, названный литография с увеличенным разрешением посредством фотоиндуцированной деактивации (Resolution Augmentation through Photo-Induced Deactivation, RAPID), который может создавать наноструктуры с детализацией 40 нм, или в 20 раз меньшей, чем используемая в типичных случаях длина волны 800 нм.

Идея была позаимствована у технологии, которая лежит в основе микроскопии со стимулированным подавлением эмиссии (STimulated-Emission-Depletion (STED) microscopy), в которой первый лазерный импульс возбуждает флуоресцентные молекулы, а второй, более длинноволновый, «гасит» молекулы с помощью стимулированной эмиссии везде, кроме центрального района фокального объема импульсов. Затем формирование пространственной фазы ослабляющего пучка локализует флуоресценцию в зоне намного меньшей, чем длина волны возбуждающего света.

Аналогично RAPID-литография использует один лазерный пучок для инициализации полимеризации в фоторезисте и затем второй для деактивации фотоинициаторов и остановки процесса полимеризации. Пространственное формирование фазы деактивирующего луча может создавать структуры намного меньшие, чем длина волны активирующего. Однако в отличие от STED-микроскопии, которая требует двух пучков с разной длиной волны, команда исследователей после ряда экспериментов с разными молекулами красителей, или фотоинициаторов, нашла такой, в котором процесс полимеризации инициировался импульсами длительностью 200 фс, а деактивировался импульсами длительностью 50 пс при одной и той же длине волны 800 нм. Это значит, что процесс RAPID-литографии может быть реализован с помощью одного лазерного источника.

Исследователи полагают, что оптимизируя фазовую маску, длину волны лазера и фотоинициаторы, они смогут разработать наноструктуры с детализацией 10 нм. «Повышение разрешения с помощью RAPID значительно расширяет возможности и потенциальные применения двухфотонной полимеризации, - сказал Джон Фуркаш (John Fourkas), профессор химии из Университета Мериленда. – Мы рассматриваем возможности использования RAPID в литографии поверхностей для приложений в нанофотонике и в нанобиотехнологиях, и по мере увеличения разрешения и улучшения свойств материалов, мы ожидаем, что RAPID будет использоваться в широком круге наномасштабных приложений».

+33
голоса

Напечатать Отправить другу

Читайте также

 
 
IDC
Реклама

  •  Home  •  Рынок  •  ИТ-директор  •  CloudComputing  •  Hard  •  Soft  •  Сети  •  Безопасность  •  Наука  •  IoT