| 0 |
|
Китайський стартап Prinano оголосив про успішну валідацію технології масового виробництва фотонних чипів на 8-дюймових кремнієвих пластинах без використання традиційних літографічних систем. За заявою компанії, новий метод дозволяє знизити витрати на виробництво до 90% порівняно зі стандартними галузевими рішеннями.
Згідно з офіційним повідомленням у соціальній мережі WeChat, стартап із Ханчжоу (провінція Чжецзян) у співпраці з компанією Shenzhen Litra Technology зміг повністю уникнути потреби в дефіцитних степперах глибокого ультрафіолету (DUV). Для створення мікросхем було використано власну установку вакуумного наноімпринтингу на повітряній подушці PL-AS, а також «спеціалізовані двошарові матеріали та оптимізовані базові процеси».
Для напівпровідникового сектору КНР цей анонс може стати новим променем надії. Наразі країна перебуває під жорсткими експортними обмеженнями з боку США та їхніх союзників, через що нідерландська компанія ASML не може постачати до Китаю свої найсучасніші літографи екстремального ультрафіолету (EUV), а також низку передових DUV-систем.
Розробка Prinano націлена на створення фотонних чипів, які масово використовуються в системах оптичного зв'язку, сенсорах та лідарах безпілотного транспорту. Застосування технології наноімпринтингу (NIL) до цих компонентів є стратегічно вигідним, оскільки фотонні чипи складаються з повторюваних нанорозмірних оптичних структур (решіток, хвилеводів та кільцевих резонаторів), які підходять для штампування.
Технологія наноімпринтингової літографії (NIL) формує наноструктури на кремнієвій пластині шляхом фізичного відбитка (пресування) матриці-штампу в рідкий полімер, на відміну від традиційної оптичної літографії, де малюнок проєктується за допомогою світла та складних лінз.
Компанія Prinano була заснована у 2017 році. Її керівник, Ге Хайсюн (Ge Haixiong), є учнем професора Принстонського університету Стівена Чоу (Stephen Y. Chou), якого у 1990-х роках визнали піонером технології наноімпринтингу. Торік у серпні Prinano звітувала про постачання першої вітчизняної NIL-системи внутрішньому замовнику в Китаї.
Інтерес до цього методу знову зріс у 2023 році, коли Canon випустила власну комерційну NIL-систему, позиціонуючи її як дешевшу та менш енергомістку альтернативу обладнанню ASML.
Проте галузеві аналітики з дослідницької фірми SemiAnalysis закликають до стриманого оптимізму. Експерти зазначають, що хоча самі установки наноімпринтингу значно дешевші за літографи ASML, реальна економічна вигода залежить від багатьох факторів: швидкості роботи (пропускної здатності); складності виготовлення та зносу штампів; рівня дефектності (yield rate) при фізичному контакті інструменту з пластиною; складності інтеграції процесу в наявні конвеєри.
Аналітики впевнені, що наноімпринтинг навряд чи зможе найближчим часом замінити EUV-літографію у виробництві найсучасніших логічних процесорів (наприклад, для смартфонів чи AI-прискорювачів).
За даними Prinano, її інструмент PL-AS забезпечує роздільну здатність ліній менше ніж 10 нанометрів та точний контроль тиску на рівні всієї пластини. Крім кремнієвої фотоніки, технологію адаптують для роботи зі складними напівпровідниками на основі арсеніду галію та фосфіду індію.
Водночас стартап залишив за дужками ключові комерційні показники: точний обсяг випуску, відсоток виходу придатних чипів та дані незалежної перевірки. Через це експертам складно оцінити, чи вийшов проєкт за межі лабораторної валідації на рівень повноцінного комерційного виробництва.
Попри це, кейс Prinano відображає загальнокитайський тренд на пошук альтернативних технологічних маршрутів в обхід санкцій. Подібно до нещодавно запропонованого компанією Huawei «закону тау-масштабування» (який зміщує фокус із мініатюризації транзисторів на швидкість руху даних усередині системи, передове пакування та 3D-інтеграцію), китайські стартапи намагаються знайти практичні інженерні рішення у спеціалізованих нішах напівпровідникового ринку.
Стратегія охолодження ЦОД для епохи AI
| 0 |
|
