NEC Electronics и Toshiba объявили о расширении соглашения о сотрудничества с IBM на участие в разработке КМОП-процесса для изготовления 28-нанометровых экономичных чипов на базе технологии HKMG (High-K Metal Gate).
Альянс, в качестве опорного предприятия использующий центр IBM в Ист-Фишкилле (Нью-Йорк), также включает компании Chartered Semiconductor Manufacturing, GLOBALFOUNDRIES, Infineon Technologies, Samsung Electronics и STMicroelectronics.
Компании уже создали технологию 32 нм на основе HKMG и намерены плавно перейти к процессам 28 нм.
Стратегія охолодження ЦОД для епохи AI
| 0 |
|
