`

СПЕЦИАЛЬНЫЕ
ПАРТНЕРЫ
ПРОЕКТА

Архив номеров

Как изменилось финансирование ИТ-направления в вашей организации?

Best CIO

Определение наиболее профессиональных ИТ-управленцев, лидеров и экспертов в своих отраслях

Человек года

Кто внес наибольший вклад в развитие украинского ИТ-рынка.

Продукт года

Награды «Продукт года» еженедельника «Компьютерное обозрение» за наиболее выдающиеся ИТ-товары

 

Леонид Бараш

Найден более простой способ изготовления одноэлектронных устройств

+22
голоса

Одноэлектронные устройства обладают рядом преимуществ по отношению к традиционной электронике. В частности, они потребляют очень мало энергии и имеют очень высокую плотность упаковки. Эти свойства делают их привлекательными для различных приложений, включая коммерческую электронику, космическую и военную сферы.

Однако их изготовление является достаточно трудным. Необходимо иметь возможность управлять процессом в нанометровом диапазоне, а это значит, что только несколько устройств может быть изготовлено за один раз.

Теперь Сеон Дзинь Ко (Seong Jin Koh) с коллегами из Университета штата Техас в Арлингтоне разработали новую работающую при комнатной температуре технику с параллельными процессами, которая позволяет производить много индивидуально адресуемых устройств. Метод, базирующийся на стандартной технологии производства чипов, открывает способ изготовления интегрированных систем для практических применений, включая компьютерные чипы с ультранизким энергопотреблением.

Команда ученых создала свои устройства с использованием хорошо отработанной техники производства КМОП-приборов, включающую фотолитографию, тонкопленочное осаждение и травление. Секрет нового подхода заключается в составлении стека из двух электродов, который содержит тонкий слой изоляции между ними, и нанесении наночастиц золота на экспонированную поверхность стека посредством самособирающихся монослоев.

Найден более простой способ изготовления одноэлектронных устройств

Вплоть до настоящего времени производство одноэлектронных устройств требовало сложных процедур, таких как электронно-лучевая литография, наноокисление с использованием сканирующего туннельного микроскопа, механически управляемого размыкания и электромиграции. Такие методы не подходили для крупномасштабных параллельных процессов.

Предложенная технология преодолевает эти препятствия.

+22
голоса

Напечатать Отправить другу

Читайте также

 
 
IDC
Реклама

  •  Home  •  Рынок  •  ИТ-директор  •  CloudComputing  •  Hard  •  Soft  •  Сети  •  Безопасность  •  Наука  •  IoT