Компания Fujitsu Laboratories объявила о создании энергосберегающей КМОП-технологии для схем LSI с уровнем детализации 32 нм и ниже. Её суть заключается в применении специфической кристаллической поверхностной структуры кремния, использование которой ранее в подложках микросхем было невозможно из-за происходящего в результате снижения производительности.
Улучшив ее характеристики сотрудники Fujitsu смогли, используя существующие производственные мощности 45-нанометрового уровня уменьшить потребляемую чипами энергию на 20% без потери производительности.
Ожидается, что технология будет использоваться в создании многофункциональных чипов LSI для мобильных телефонов и микропроцессоров с несколькими вычислительными ядрами.
Стратегія охолодження ЦОД для епохи AI
| 0 |
|
