Компания Chartered Semiconductor Manufacturing объявила о доступности улучшенной версии 65-нанометрового техпроцесса – 65 нм LPe. Его основным преимуществом является уменьшение тока утечки в 20 раз, что снижает на 50% энергопотребление системы-на-чипе (SoC).
Данный техпроцесс подходит для устройств с автономным питанием – мобильных телефонов, мультимедийных плееров и MID.
Кроме того, Chartered совместно с консорциумом Wireless SoC Platform Alliance (WISPA) представила оптимизированную радиочастотную платформу, основанную на техпроцессе 65 нм LPe и предназначенную для быстрого создания и вывода на рынок беспроводных чипов.
Платформа поставляется с широким набором элементов, предоставленных поставщиками интеллектуальной собственности и членами консорциума WISPA – он включает в себя протестированные подсистемы для Wi-Fi, Wi-Max, GPS, стандартных промышленных интерфейсов mDDR/DDR/DDR2, USB 2.0, PCI express, SATA II и LVDS и др.
Стратегія охолодження ЦОД для епохи AI
| +13 голоса |
|
