Новый технологический процесс, продемонстрированный специалистами Национального института стандартов и технологий (National Institute of Standards and Technology, NIST), позволяет изменять электрическое сопротивление индивидуальных слоев полупроводниковых устройств без внесения модификаций в остальные этапы производственного процесса.
