Toshiba открывает новое полупроводниковое производство

Состоялось официальное открытие новой фабрики по производству полупроводниковых устройств на базе 200-миллиметровых пластин, принадлежащей дочернему предприятию Toshiba – Kaga Toshiba – и расположенному в префектуре Исикава (Япония).

Завод начал функционировать уже в конце сентября, когда завершилась первая фаза инвестиций в сооружение новых зданий и укомплектование их производственным оборудованием. Всего программа финансирования рассчитана на 5 лет (с 2006 по 2010 финансовые годы) и составляет 55 млрд иен. Мощность фабрики достигнет 60 тыс. заготовок в месяц, а в дальнейшем может быть еще увеличена в ответ на потребности рынка. Общее количество занятого на заводе персонала – 850 человек, а площадь, занимаемая комплексом – 23 тыс. м кв.

Ключевой сферой деятельности нового предприятия станет выпуск мощных полупроводниковых схем, что наряду с системными БИС, изготовляемыми в Oita Operations, и флэш-памятью NAND – в Yokkaichi Operations, обеспечит необходимую сбалансированность полупроводниковому бизнесу Toshiba Group.