+11 голос |
Согласно данным корейских СМИ, на которые ссылается Digitimes, Samsung Electronics и SK Hynix активизировали усилия по переводу производства памяти DRAM на литографию с применением ультрафиолетового излучения (EUV). При этом Samsung вскоре может начать использование этого техпроцесса в коммерческом производстве.
Как заявляют в Samsung, в скором времени они внедрят технологию EUV в производство продукции по 7 нм техпроцессу, прежде чем распространить ее на производство DRAM. Это повысит технологическую конкурентоспособность сверхскоростных и сверхемких продуктов DRAM.
SK Hynix, в свою очередь, объявила о планах по строительству нового завода по производству DRAM в Ичеон-Сити (Южная Корея), где она начнет использовать новую технологию EUV, разрабатываемую компанией в настоящее время.
Чипы памяти DRAM, выпущенные на базе технологии EUV, будут более конкурентноспособными на рынке, так как этот техпроцесс поможет уменьшить масштабирование чипов DRAM, что приведет к повышению их производительности и энергоэффективности.
В настоящий момент отсутствие заметного отличия в продукции различных производителей DRAM привели к затяжной ценовой конкуренции. Если Samsung и SK Hynix успешно освоят технологию EUV, то их память станет более привлекательной для потребителей. Учитывая, что Micron пока не так активно работает в направлении EUV, ожидается, что Samsung и SK Hynix получат технологическое лидерство в производстве DRAM, отмечают источники.
Стратегія охолодження ЦОД для епохи AI
+11 голос |