Предложен метод получения окисла графена для прозрачной электроники

Во всем мире активно проводятся исследования в области углеродных наноструктур. Американскими учеными разработан новый и простой метод контролируемого осаждения окисла графена на различные субстраты при комнатной температуре. Получающиеся ультратонкие пленки большой площади являются прозрачными и их электрические свойства могут регулироваться от полупроводников до металла посредством изменения толщины.

Техника базируется на методе вакуумной фильтрации, при котором суспензия, содержащая однослойные хлопья окисла графена в воде, фильтруется через бумажный фильтр с порами 25 нм. По мере того как вода фильтруется сквозь поры, хлопья микронного размера захватываются. Процесс фильтрации продолжается до тех пор, пока не забьются все поры.

Этим методом можно получить на мембране фильтра однородный лист графена толщиной 1—5 нм. Большее количество слоев может быть получено повторением фильтрации.

Затем пленка переносится на подходящую поверхность, такую как кварц на кремниевом стекле или пластик. Это делается посредством помещения мембраны  пленкой вниз на субстрат и растворения бумажного фильтра с помощью ацетона.

Пленка может быть использована для производства, к примеру, органических солнечных элементов или транзисторов. Хотя такие устройства пока еще имеют низкую производительность, но сама концепция подтверждена и является перспективной, особенно в области создания гибких прозрачных проводников.