Intel изготовила первую 45-нанометровую микросхему

Intel объявила о создании первого в мире чипа с уровнем детализации 45 нм. Изготовленная ею экспериментальная микросхема функционирует как память SRAM, но содержит все компоненты многоядерного процессора. Она вмещает миллиард транзисторов - примерно вдвое больше, чем позволяют технологии, применяемые сегодня, - и потребляет меньше энергии.

Компания, расходующая миллиарды долларов с целью увеличить технологический разрыв с конкурентами, не сообщает, во сколько ей обошлась разработка нового техпроцесса.

Как известно, в четвертом квартале прошлого года она внедрила наиболее прогрессивную на сегодняшний день 65-нанометровую технологию. Начать выпуск процессоров с использованием производственного процесса с детализацией 45 нм она рассчитывает во второй половине 2007 г.

Производство нового поколения чипов будет развернуто на предприятии D1D в Орегоне, а также на двух строящихся сейчас заводах -- Fab 32 в Аризоне и Fab 28 в Израиле.