IBM, Sony и Toshiba взяли курс на уровень детализации 32 нм

13 январь, 2006 - 00:00
Корпорации IBM, Sony и Toshiba 12 января заявили, что их альянс в области разработки полупроводниковых технологий вступил в новую пятилетнюю фазу.

На этом этапе компании будут осуществлять совместные фундаментальные исследования, необходимые для создания производственных процессов с уровнями детализации 32 нм и менее.

Опытно-конструкторскую базу для этого проекта по прежнему предоставит IBM. Исследования будут сосредоточены в трех ее центрах: Thomas J. Watson Research Center в Йорктаун Хайтс, Center for Semiconductor Research в Элбани и 300-миллиметровом производстве в Ист Фишкилле (штат Нью Йорк).

На протяжении последних пяти лет участники альянса работали над созданием микропроцессора Cell и развитием сопутствующих 90- и 65-микронных технологий.